Диффузионные процессы, протекающие в поверхностных слоях пробы, можно разделить на три основные группы: а) процессы реактивной диффузии на самой поверхности пятна обыскривания (обжига), к которым можно отнести окислительные процессы; б) процессы преобразования структуры поверхностных слоев пробы под влиянием термического воздействия источника и активизированных атомов элементов, находящихся в межэлектродном промежутке (образование твердых растворов, азотирование, насыщение поверхностных слоев пробы углеродом в случае обыскривания с угольным подставным электродом и т. д.); в) процессы продвижения атомов из одного поверхностного слоя пробы в другой, вызванные перераспределением концентраций элементов во время обыскривания (обжига).
Целесообразно вначале обсудить возможность развития этих процессов при использовании искрового возбуждения, а затем сопоставить имеющийся по этому вопросу экспериментальный материал в физическом металловедении с данными о поступлении некоторых элементов в излучающее облако и отдельными фактами влияния элементов и структуры при использовании дугового возбуждения, содержащимися в спектрально-аналитической литературе.
Прежде всего необходимо оценивать возможность развития диффузионных процессов в случае протекания одного элементарного разряда. В работе Л. С. Палатника рассмотрены особенности воздействия искрового разряда на поверхность металлической пробы в условиях спектрального анализа. Согласно этой работе, вследствие кратковременности электрических разрядов на эффект избирательного испарения большое влияние оказывают кинетические факторы: 1) скорости нагрева и охлаждения рабочего объема пробы, общая продолжительность действия на него высоких температур; 2) скорости диффузионных процессов, вызывающих расслоение или гомогенизацию, т. е. перераспределение состава фаз в этом объеме пробы.