Применение аргона

Генераторы низковольтного искрового разряда, придаваемые к вакуумным квантомстрам, позволяют выполнять точное определение в сталях ряда элементов в следующих концентрациях: серу и фосфор от 0,005% и выше, углерод, марганец, кремний, хром и никель от сотых долей процента и выше; высокие концентрации ряда элементов также определяются с удовлетворяющей производство точностью.

В последнее время проведено сравнительно большое число исследований явлений в зоне воздействия низковольтной искры на металлические электроды. В работах описаны процессы, протекающие в зоне обыскривания, главным образом, в атмосфере аргона, поскольку этот источник, как указывалось выше, нашел широкое применение при использовании вакуумных квантометров.

Исследования ученых помогают создать крепкие сплавы, используемые в промышленности. Но каждый из нас знает цену настоящему благородному металлу, лучшему украшению. Например, купить серебро цена можно узнать онлайн.

Своеобразие процессов обыскривания в очищенном аргоне заключается в значительном подавлении процессов окисления поверхностных слоев пробы. Кроме этого, определенное значение имеет характер разрушения металлической поверхности пробы при ее включении в качестве катода. В работах показано, что при этом разряды локализуются на карбидных и оксидных включениях, границах зерен, шероховатостях поверхности пробы. Установлено, что на поверхности пробы в зависимости от расположения сульфидов железа (обыскривание вдоль или поперек прокатки) резко меняется эрозия пробы и, соответственно, определяемая концентрация серы. Существенное влияние при этом оказывает содержание примесей в аргоне, что было доказано опытами Такахаси и др. путем измерения эрозии различных металлов в искре при вариации содержания азота и кислорода в аргоне в довольно широких пределах.

При изучении особенностей эрозии при обыскривании в атмосфере аргона и воздуха сталей различного состава было установлено, что она зависит от их композиции и структурного состояния сплавов, которое существенно меняет обрабатываемую поверхность пробы.